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【第九届进博会】中国新一代光刻机模型亮相 性能直追国际标杆
11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在国家会展中心(上海)举办。上海微电子装备集团(SMEE)携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800(模型)亮相进博会中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。展台吸引了不少参展观众驻足停留，询问详细信息。
据介绍，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。(李秋莹 张易安 制作 王嘉怡)
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